广泛用于冶金、机械、轻工、商检、高等院校及科研部门，其性能达到国外同类产品的标准，可处理直径小于270mm的半导体样片，采用K型热电偶测温和518P温控仪30段可编程智能控温，具有较高的控温精度。
主要应用于CVD实验，荧光粉制备，真空或气氛烧结、基片镀膜等要求加热温度较高的实验环境. 是各大材料实验室的理想设备之一。
用途：高温气氛烧结、镀膜、气氛还原、CVD实验、真空退火用的理想产品。
特点：双层风冷结构；高密度硅碳棒真空挤压成型，三个温区独立控温，高纯氧化铝纤维真空吸附一次成型；30段可编程智能控制（可外接远程控制）。
工作温度：≤1200℃
炉管尺寸：60mm*1200mm
外型尺寸：1200*660*750*mm（更多规格可根据用户需求定制）
温控方式：30段可编程自动控制
温控保护：具有超温及断偶报警功能
温控精度：± 1℃
加热速率：0~20 ℃ / 分
气密性：4.03×10-3Pa
加热元件：掺钼铁铬铝合金电阻丝
施工时气温应在5℃~35℃之间；
本产品为客户来图非标定制产品，产品一经出厂不予退货；
施工过程中注意保护产品外框架不受损不磕碰；
本产品外框架承诺质保十年（非人为损坏），质保期外亦可有偿维护，售后热线：139 1281 7500
江苏维尔炉业有限公司多年来一如既往地坚持公司的优良传统，可靠的技术，服务于铸造、加热、锻造、熔化、金属处理行业！我们将秉持精心制造和用心服务的经营理念服务于新老客户，我们将继续致力于为客户提供从锻造加热、热处理熔化到金属处理的全面解决方案。我厂研发制造的主要产品有退火炉、回火炉、淬火炉、熔化炉、真空炉、时效炉、渗碳炉、氮化炉、焙烧炉、实验炉、盐浴炉、镁合金生产线、锰矿焙烧生产线等多种类型产品，并可根据用户需求设计制造各种非标准的热处理设备及自动化热处理生产线。
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