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三温区管式气氛炉

【产品概述】广泛用于冶金、机械、轻工、商检、高等院校及科研部门,其性能达到国外同类产品的标准,可处理直径小于270mm的半导体样片,采用K型热电偶测温和518P温控仪30段可编程智能控温,具有较高的控温精度。主要应用于CVD实验,荧光粉制备,真空或气氛

执行标准:

ISO9001质量管理体系认证

产品特点:

外观大方,安装简便,使用寿命长

产品描述

广泛用于冶金、机械、轻工、商检、高等院校及科研部门,其性能达到国外同类产品的标准,可处理直径小于270mm的半导体样片,采用K型热电偶测温和518P温控仪30段可编程智能控温,具有较高的控温精度。

主要应用于CVD实验,荧光粉制备,真空或气氛烧结、基片镀膜等要求加热温度较高的实验环境. 是各大材料实验室的理想设备之一。

用途:高温气氛烧结、镀膜、气氛还原、CVD实验、真空退火用的理想产品。

特点:双层风冷结构;高密度硅碳棒真空挤压成型,三个温区独立控温,高纯氧化铝纤维真空吸附一次成型;30段可编程智能控制(可外接远程控制)。

工作温度:≤1200℃

炉管尺寸:60mm*1200mm

外型尺寸:1200*660*750*mm(更多规格可根据用户需求定制)

温控方式:30段可编程自动控制

温控保护:具有超温及断偶报警功能

温控精度:± 1℃

加热速率:0~20 ℃ / 分

气密性:4.03×10-3Pa

加热元件:掺钼铁铬铝合金电阻丝

注意事项

施工时气温应在5℃~35℃之间;

本产品为客户来图非标定制产品,产品一经出厂不予退货;

施工过程中注意保护产品外框架不受损不磕碰;

本产品外框架承诺质保十年(非人为损坏),质保期外亦可有偿维护,售后热线:139-1281-7500

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江苏维尔炉业有限公司

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