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真空管式气氛炉

【产品概述】真空管式气氛炉以硅钼棒为发热元件;采用双层壳体结构和30段程序控温系统,移相触发、可控硅控制,炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料,双层炉壳间配有风冷系统,能快速升降温,炉管下方配有支架,有效防止炉管两端高温变形断裂;可以预抽真空并能通氢气、氩气、

执行标准:

ISO9001质量管理体系认证

产品特点:

外观大方,安装简便,使用寿命长

产品描述

真空管式气氛炉以硅钼棒为发热元件;采用双层壳体结构和30段程序控温系统,移相触发、可控硅控制,炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料,双层炉壳间配有风冷系统,能快速升降温,炉管下方配有支架,有效防止炉管两端高温变形断裂;可以预抽真空并能通氢气、氩气、氮气、氧气、一氧化碳、氨分解气等气体,该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点,是高校、科研院所、工矿企业做气氛保护烧结、气氛还原用的理想产品。

主要用途:

主要应用于陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、耐火材料、特种材料、建材、高校、科研院所、工矿企业做粉末焙烧、陶瓷烧结、高温实验、材料处理、质高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火等 。

用途:粉末焙烧、陶瓷烧结、高温实验、材料处理、质高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、真空退火、以及高、中、低温CVD工艺,如碳纳米管的研制,晶体硅基板镀膜。

特点:采用PID方式调节,可设置30段升降温程序,炉管下方配有支架,有效防止炉管两端高温变形断裂。

工作温度:1500℃

温度不高于:1600℃

炉管尺寸:Φ60mm*1000mm

外型尺寸:860×470×720mm   (更多规格可根据用户需求定制)

温控方式:采用PID方式调节30段可编程自动控制;

温控保护:具有超温及断偶报警功能

控温精度:± 1℃

加热速率:0~20 ℃ / 分

温区长度:300mm

真空密封系统:仪器标配中有一套不锈钢真空密封法兰,出气和进气端都安装有不锈钢截止阀

加热元件:1700oC级硅钼棒 

工作电压:AC 220V 单项 50 Hz

功率不大于:5KW

测温元件:B型单铂铑热电偶测温

气密性:4.03×10-3Pa

净重:100 Kg

注意事项

施工时气温应在5℃~35℃之间;

本产品为客户来图非标定制产品,产品一经出厂不予退货;

施工过程中注意保护产品外框架不受损不磕碰;

本产品外框架承诺质保十年(非人为损坏),质保期外亦可有偿维护,售后热线:139 1281 7500

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